CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Quantitative XPS Depth Profiling for Nickel/4H-SiC Contact with Layered Structure

Yu Cao (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik) ; Lars Nyborg (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik)
ECASIA 2005, Surface and Interface Analysis special edition (2006)
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

Nyckelord: XPS, depth profiling, Ni/SiC contact, layered structure



Denna post skapades 2006-09-12. Senast ändrad 2016-02-01.
CPL Pubid: 10931

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik

Ämnesområden

Materialteknik

Chalmers infrastruktur