CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Oxidation behavior at 300–1000C of a (Mo,W)Si2-based composite containing boride

Linda Ingemarsson (Institutionen för kemi- och bioteknik) ; Mats Halvarsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; Kristina Hellström (Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi) ; Torbjörn Jonsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; Mats Sundberg ; Lars-Gunnar Johansson (Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi) ; Jan-Erik Svensson (Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi)
Intermetallics (0966-9795). Vol. 18 (2010), 1, p. 77-86.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

The oxidation behavior of a (Mo,W)Si2 composite with boride addition was examined at 300–1000C for 24 h in dry O2. The oxidation kinetics was studied using a thermobalance, and the oxide scales were analyzed using a combination of electron microscopy (SEM/EDX, FIB, BIB) and XRD. Accelerated oxidation was found to occur between 500C and 675C, with a peak mass gain at 625C. The rapid oxidation is attributed to the vaporization of molybdenum oxide that leaves a porous and poorly protective silica layer behind. At higher temperature (700–1000C) a protective scale forms, consisting of a dense SiO2/ B2O3 glass.

Nyckelord: A. Molybdenum silicides; B. Oxidation; D. Microstructure; F. Diffraction; F. Electron microscopy, scanning



Denna post skapades 2009-12-14. Senast ändrad 2016-07-04.
CPL Pubid: 103522

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för kemi- och bioteknik (2005-2014)
Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys (2005-2012)
Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi (2005-2014)

Ämnesområden

Materialteknik

Chalmers infrastruktur