CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

XPS calibration study of thin-film nickel silicides

XPS calibration study of Ni Silicides

Yu Cao (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik) ; Lars Nyborg (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik) ; Urban Jelvestam (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik)
Surface and Interface Analysis (0142-2421). Vol. 41 (2009), 6, p. 471-483.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

This paper presents a systematic X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)study of the Ni silicides Ni3Si, Ni31Si12, Ni2Si, NiSi and NiSi2 produced by annealing of sputtered thin films. The in situ XPS study focuses on both the core level peaks and Auger peaks. The peak positions, shapes, satellites as well as Auger parameters are compared for different silicides. The factors that influence the Ni core level peak shifts are discussed. The Ni 2p3/2 peak shape and satellites are correlated with the valence band structure. The effect of argon ion etching on surface composition and chemical states is also investigated.

Nyckelord: Ni silicides, XPS, Wagner plot, Auger parameter, core level, depth profile



Denna post skapades 2009-12-03. Senast ändrad 2016-02-01.
CPL Pubid: 102687

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik

Ämnesområden

Ytbehandlingsteknik

Chalmers infrastruktur